प्रिसिजन मशीन एवं मशीन टूल्स समुच्चय

प्रेसिजन मशीन टूल्स और एग्रीगेट्स स्वदेशी विकास और उच्च मूल्य मशीन टूल्स के उत्पादन और मशीन टूल्स के समुच्चय में शामिल हैं।मूह उन्नत विनिर्माण के लिए प्रक्रिया प्रौद्योगिकी के विकास में भी शामिल है, जिसमें हमारे देश में स्थायी विकास और प्रमुख आर्थिक लाभ लाने की क्षमता है।समूह की मांग की आवश्यकताओं को पूरा करने का लक्ष्य है, जरूरतों और दक्षताओं को पूरा करने में चुनौतियां जो मशीन टूल उद्योग को उन्नत, उच्च मूल्य मशीन टूल्स के स्वदेशी उत्पादन में नवाचार, आत्मनिर्भरता और निरंतर आपूर्ति श्रृंखला को अनुसंधान एवं विकास केंद्रों, उद्योगों और शैक्षणिक संस्थानों की भागीदारीके साथ सफलतापूर्वक वितरित करने की अनुमति दे सकती हैं।

केन्द्र प्रमुख
	श्री प्रकाश विनोद	वैज्ञानिक - एफ	प्रोफ़ाइल देखें

ग्रुप प्रमुख
Sorry, No Staff are Matched Your Criteria.


श्री गोपीकृष्णा एस	वैज्ञानिक - डी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री नरेन्द्र रेड्डी टी	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री विथुन एस एन	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री हरीकृष्णा सतीश थोता	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री नवीन के	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री मंजूनाथ एम ए	वैज्ञानिक-सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री ईशान आनंद सिंह	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें
श्री कुमार अभिनव	वैज्ञानिक - सी	प्रोफ़ाइल देखें


श्री शिशुमा डीएस	तक. सहा. ग्रेड ।।	080-22188385
श्री सोमशेखर के एस	तकनीकी सहायक ग्रेड ।I	080-22188385
श्रीमती लवन्या आर	तकनीकी सहायक ग्रेड ।	080-22188371
श्री फणीराज एच एस	क्राफ्टमैन ग्रेड ।।	080-22188383

प्रशासन
Sorry, No Staff are Matched Your Criteria.

पूर्ण

इंटेलिजेंट अल्ट्रा सटीक
टर्निंग मशीन का डिजाइन और विकास

उद्देश्य:

नैनोमीटर में सटीकता के साथ जटिल ज्यामिति के लिए सरल घटकों वाले अल्ट्रा सटीक मोड़ के लिए "एक बुद्धिमान अल्ट्रा सटीक टर्निंग मशीन" विकसित करना।
मशीन पर लगे सेंसर का उपयोग करके मशीन के त्रुटियों के अनुकूली नियंत्रण और ऑनलाइन मुआवजा के लिए प्रौद्योगिकियों का विकास।
मशीन पर लगे सेंसरों का उपयोग करके इंजेलीजेंट निदान और प्रसंज्ञान के लिए प्रौद्योगिकियों का विकास।
बुद्धिमान मशीनिंग प्रक्रिया मॉडल और अनुकूली नियंत्रण मॉड्यूल के विकास और एकीकरण द्वारा काटने की प्रक्रिया का अनुकूलन।

वितरणयोग्य:

इंटेलिजेंट मशीनों के स्वदेशी विकास के लिए प्रौद्योगिकी।
अल्ट्रा सटीक गति प्रणालियों के स्वदेशी विकास के लिए प्रौद्योगिकी।
सिंगलपॉइंटडायमंडटर्निंगमेंअनुसंधानकेलिएसीएमटीआईमें प्रौद्योगिकी प्रदर्शनकर्ता और सुविधा का निर्माण।
सतह फिनिशिंग रा <5एनएमप्राप्त करने के लिए गैर-लौह और आईआर सामग्री की विस्तृत विविधता से ऑप्टिकल और सटीक घटकों के हीरे टर्निंग के लिए स्थापित प्रक्रिया पैरामीटर।
ज्यामितीय और थर्मल त्रुटि कंपनसेसन के लिए विकसित और एकीकृत वास्तविक समय इंटेलिजेंट मॉड्यूल।
जटिल और फ्रीफ़ॉर्म ऑप्टिकल सतहों के निर्माण के लिए एसपीडीटी में अत्याधुनिक आरएंडडी प्रोजेक्ट की स्थिति के लिए अग्रणी।

सूक्ष्म स्टीरियो लिथोग्राफी प्रणाली का विकास

उद्देश्य:

पॉलिमरिकसूक्ष्मघटकोंकेएडिटिवविनिर्माणकेलिएमाइक्रोस्टेरोलिथोग्राफी (एमएसएल) सेटअपकाविकास।

वितरणयोग्यः

पॉलिमर सूक्ष्म घटक और जैव चिकित्सा, एमईएमएस, सेमीकंडक्टर क्षेत्र आदि से संबंधित उद्योगों की सेवा के लिए।
कॉम्पैक्ट एमएसएलउपकरण जो महंगे लेजरआधारित एमएसएलको किफायती और पोर्टेबल विकल्प प्रदान करेगा।
दवा वितरण के लिए और बायोपोटेशनल माप के लिए पॉलिमर माइक्रो सुई (ईईजी, ईसीजी, ईएमजी ईओजी आदि।,)

अपघर्षक प्रवाह परिष्करण मशीनिंग का विकास (एएफएफएम-150डी)

उद्देश्य:

प्रोटोटाइप अपघर्षक प्रवाह परिष्करण मशीन का डिजाइन और विकास।
अपघर्षक प्रवाह परिष्करण के माध्यम से सुपर परिष्करण की सुविधाएं स्थापित करना।
अपघर्षक प्रवाह परिष्करण मशीन के लिए विस्को-इलेस्टिकपॉलीमर अपघर्षक मीडिया का विकास।
मीडिया की तैयारी के लिए दो रोल मिक्सिंग मशीन का विकास

वितरणयोग्यः

नैनो फ़िनिशिंग, रेडियसिंग और डीब्रीइंग के लिए अपघर्षक प्रवाह परिष्करण मशीन।
हीटएक्सचेंजरऔरघटकरोटेशनसुविधाजैसी नाविक सुविधाओं के साथ प्रयोगात्मक सेटअप।
50एनएमकी सतह खुरदरापन (रा) तक कोमेक्स घटक को समाप्त करने के लिए प्रायोगिक सेटअप।
विस्को-इलेस्टिक अपघर्षक बहुलक मीडिया, जिसमें वैरिएंट चिपचिपापन और दो रोल मिल मशीन है।

नैनो पोजिशनिंग स्टेज का विकास

उद्देश्य

एक 3 दिशात्मक बंद लूप ट्रांसलेशनल नैनो पोजिशनिंग स्टेज विकसित करने के लिए जिसमें उच्च रिज़ॉल्यूशन, बेहतर सटीकता, अच्छी पुनरावृत्ति और एक्सिस के बीच न्यूनतम विघटित गति हो।

वितरित:

नैनो पोजिशनिंग स्टेज प्रोटोटाइप एक्सवार्दिशा में 70 माइक्रोन और जेडदिशा में 15 माइक्रोन क्रमशः 1एनएम (एक्सवाई) और 0.3एऩएमजेडरेजोल्यूशन के साथ ले जाने में सक्षम है।
प्रकाशन: 7

पोर्टेबल कॉम्पैक्ट स्कैनिंग टनेलिंग माइक्रोस्कोप (एसटीएम) का विकास

उद्देश्य

एक 3 दिशात्मक बंद लूप ट्रांसनैशनल नैनो पोजिशनिंग स्टेज विकसित करने के लिए जिसमें उच्च रिज़ॉल्यूशन, बेहतर सटीकता, अच्छी पुनरावृत्ति और एक्सिस के बीच न्यूनतम डिकप्ल्ड गति हो।

वितरणयोग्य:

दो पोर्टेबल स्कैनिंग टनेलिंग माइक्रोस्कोप प्रोटोटाइप जिनकी रेंज है: एक्सवाई - 600 एनएम, जेड - 200 एनएम रिज़ॉल्यूशन के साथ एक्सवाई - 0.01 एनएम, जेड - 0.003 एनएम और सतह स्थलाकृति प्रवाहकीय नमूना प्राप्त करने में सक्षम है।
प्रकाशन: 1
पेटेंट: 2 (दायर)
ट्रेडमार्क: 2 पंजीकृत

फोटोनिक्स अनुप्रयोगों के लिए माइक्रो लेंस एरे मोल्ड्स का विकास

उद्देश्य:

माइक्रो लेंसलेट अनुसंधान और अनुप्रयोगों के लिए माइक्रो लेंसलेट सरणियों और फ्रीफॉर्म सतहों के निर्माण के लिए फास्ट टूल सर्वो आधारित सिंगल पॉइंट डायमंड टर्निंग प्रक्रिया पद्धति का विकास।

वितरणयोग्य:

5 विभिन्न माइक्रो लेंसलेट सरणी नमूनों के 5 सेटों को माइक्रो फोटोनिक्स अनुप्रयोगों के लिए सामरिक क्षेत्र के उद्योग के लिए तैयार किया गया था।

डिजिटल माइक्रो-मिरर डिवाइस (डीएमडी) आधारित प्रोजेक्शन माइक्रस्टेरोलिथोग्राफी (PµSL) सिस्टम का विकास

उद्देश्य: इस परियोजना का उद्देश्य डिजिटल माइक्रो-मिरर डिवाइस (डीएमडी) आधारित प्रोजेक्शन माइक्रो-स्टीरियो लिथोग्राफी (PµSL) प्रणाली का विकास करना है, जो कम लागत पर 3 डी सूक्ष्म घटकों के निर्माण के लिए और उच्चतर गति और विभिन्न व्यंजनों के विकास में पॉलिमर, जैव संगत पॉलिमर, सिरेमिक और धातु कंपोजिट जैसी विभिन्न सामग्रियों के लिए बेहतर दोहराव के लिए है।

वितरणयोग्य:सूक्ष्म 3डी माइक्रो निर्माण प्रणाली

स्पिंडल त्रुटि विश्लेषण और त्रुटि पृथक्करण के लिए स्टैंडअलोन मॉड्यूल का विकास

उद्देश्य:

इस परियोजना का मुख्य उद्देश्य स्पिंडल त्रुटियों और त्रुटि अलगाव की माप के लिए स्वदेशी स्टैंडअलोन मॉड्यूल विकसित करना है। स्पिंडल त्रुटि गतियों के मापन की सिफारिश अंतरराष्ट्रीय मानकों और एएसएमईद्वारा की जाती है। मानक त्रुटि गतियों से संबंधित बुनियादी अवधारणाओं को परिभाषित करते हैं, कई सिफारिशें प्रदान करते हैं, लेकिन डेटा अधिग्रहण और व्याख्या की एक विस्तृत कार्यप्रणाली प्रदान नहीं करते हैं। इसलिए, त्रुटि वर्गीकरण के लिए स्पिंडल त्रुटि माप और विश्लेषण के लिए स्वदेशी मॉड्यूल के विकास की आवश्यकता है और यह भारतीय कृषि उपकरण उद्योग के लिए लाभकारी होगा। इसका उद्देश्य उपरोक्त उपयोग के लिए महंगे उपकरण आयात करने में लगने वाले भारी आयात शुल्क को बचाना भी है।

वितरणयोग्यः

चुंबकीय अपघर्षण परिष्करण प्रणाली का डिजाइन और विकास।

उद्देश्य:

बेलनाकार घटकों, चुंबकीय अपघर्षक मीडिया विकास और एमएएफप्रक्रिया अनुकूलन पर ओडीपरिष्करण के लिए एमएएफटूल प्रोटोटाइप का विकास।

वितरिणयोग्य:

एमएएफ टूल प्रोटोटाइप (10 मिमी नौकरी व्यास तक के लिए मैग्नोसर्फ सी 10)

एक अत्यधिक कठोर अल्ट्रा सटीक हाइड्रोस्टैटिक स्लाइड का विकास

उद्देश्य:

अल्ट्रा-सटीकऔरअल्ट्रा-स्ट्रांग (>1000 एन / µm) और उच्च भार वहन क्षमता (>5केएन) के साथ हाइड्रोस्टेटिक स्लाइड के विकास के लिए प्रौद्योगिकी विकसित करने के लिए अच्छा थर्मल स्थिरता (लो हीट जनरेशन) और उच्च के साथ उच्च परिशुद्धता मशीन टूल अनुप्रयोगों के लिए हाई डमपिंग।

वितरणयोग्य:

तकनीकी पता है कि कैसे अनुप्रयोगों को मोड़ने, मिलिंग और पीसने के लिए अल्ट्रा सटीक हाइड्रोस्टेटिक स्लाइड डिजाइन और विकसित करना है।
अल्ट्रास्टिफअल्ट्राप्रेसिजनमशीनटूल्स (आईयूपीटीएमके वेरिएंट) के विकास की सुविधा प्रदान करेगा।
प्रौद्योगिकी प्रदर्शक।
अनुसंधान प्रकाशन और बौद्धिक संपदा अधिकार (आईपीआर)।

एक अल्ट्रा प्रिसिजन एरोस्टैटिक स्पिंडल का विकास

उद्देश्य:

उच्च घूर्णी सटीकता <100 एनएम, उच्च गति सीमा (5000 आरपीएम तक), मध्यम कठोरता (>100 एन /) एम) और लोड ले जाने की क्षमता (>500 एन) के साथ उच्च ऊष्मीय स्थिरता के लिए एक एयरोस्टेटिक स्पिंडल के विकास के लिए प्रौद्योगिकी विकसित करने के लिए। (लो हीट जेनरेशन) और गुड डम्पिंग।

वितरणयोग्य:

तकनीकी पता है कि अनुप्रयोगों को मोड़ने, मिलिंग और पीसने के लिए अल्ट्रा-प्रिसिजन एयरोस्टैटिक स्पिंडल को कैसे डिजाइन और विकसित करना है।
अल्ट्रास्टिफअल्ट्रा प्रेसिजनमशीनटूल्स (आईयूपीटीएमके वेरिएंट) के विकास की सुविधा प्रदान करेगा
प्रौद्योगिकी प्रदर्शक।
अनुसंधान प्रकाशन और बौद्धिक संपदा अधिकार (आईपीआर)।

जैव संभावित माप के लिए सूक्ष्म सुई आधारित इलेक्ट्रोड का विकास

उद्देश्य:

व्यक्तियों के स्वास्थ्य की निगरानी के लिए जैव-संभावित संकेतों (जैसे ईईजी) की माप के लिए जैव-संगत माइक्रो सुई एरे इलेक्ट्रोड बनाना

वितरणयोग्य:

100 नंबर प्रवाहकीय चिकित्सा ग्रेड पॉलिमर माइक्रो सुई इलेक्ट्रोड का उपयोग करने के लिए तैयार है।

अल्ट्रा स्टिफ अल्ट्रा प्रिसिजन टर्निंग मशीन का विकास (नैनोशेप T250)

उद्देश्यः

नैनोमीटर में सटीकता के साथ जटिल ज्यामिति वाले घटकों के अल्ट्रा सटीक मोड़ के लिए "अल्ट्रा स्टिफ-अल्ट्रा सटीक टर्निंग मशीन" विकसित करना।
मशीन सामग्री यानी लौह सामग्री (कठोर इस्पात), जर्मेनियम, सिलिकॉन के लिए उप माइक्रोन सतह एक्यूरेसी और नैनोमेट्रिक सतह फिनिशिंग के लिए मशीनिंग प्रक्रिया स्थापित करने के लिए।

वितरणयोग्यः

अल्ट्रा स्टिफ-अल्ट्रा प्रिसिजन टर्निंग मशीन के स्वदेशी विकास के लिए प्रौद्योगिकी।
अल्ट्रा सटीक गति प्रणालियों के स्वदेशी विकास के लिए प्रौद्योगिकियां, यानी हाइड्रोस्टेटिक स्लाइड, एयर बीरिंग स्पिंडल।
अल्ट्राप्रिसिजन टर्निंगमेंअनुसंधानकेलिएसीएमटीआईमें प्रौद्योगिकी प्रदर्शक और सुविधा निर्माण।
सतह खत्म आरए<10एनएमप्राप्त करने के लिए लौह और आईआर सामग्री की विस्तृत विविधता से ऑप्टिकल और डायमंड टर्निंग ऑफ ऑप्टिकलऔर प्रिसिजन कंपोनेट्स के लिए प्रक्रिया पैरामीटर।स्थापित।
अल्ट्राप्रिसिजन टर्निंगमेंनईआरएंडडीपरियोजनाएंफेरससामग्रीपरऑप्टिकलसतहोंकेसाथनएसाँचेकेनिर्माण।
अनुसंधान प्रकाशन / आईपीआर।

जारीः

अल्ट्रा प्रेसिजन हाइड्रोस्टेटिक रोटरी टेबल के प्रोटोटाइप का विकास

उद्देश्य:

अल्ट्रा डायमंड हाइड्रोस्टैटिक रोटरी टेबल के डिजाइन और विकास को सटीक डायमंड टर्निंग मशीनों पर बी-अक्ष के रूप में उपयोग करने के लिए लक्षित किया गया।

वितरणयोग्यः

340 मिमीतालिकाआकारऔर<100एनएमरोटेरी सटीकता के साथ अल्ट्रा-सटीक हाइड्रोस्टेटिक रोटरी टेबल प्रोटोटाइप।

मेट्रोलॉजी अनुप्रयोगों के लिए कॉम्पैक्ट एयर बेयरिंग रोटरी स्टेज का विकास:

उद्देश्य:

कॉम्पैक्ट एयर बेयरिंग रोटरी स्टेज के विकास के लिए प्रौद्योगिकी विकसित करना। वायु असर रोटरी चरण का उपयोग मेट्रोलॉजी / सटीक विधानसभा अनुप्रयोगों के लिए किया जा सकता है। घूर्णी सटीकता <1μm, गति सीमा (100 आरपीएमतक), मध्यम कठोरता (> 100 एन / µm) और भार वहन क्षमता (~ 500 N)।

वितरणयोग्य

कॉम्पैक्ट एयर असर रोटरी स्टेज, मेट्रोलॉजी / सटीक विधानसभा अनुप्रयोगों को डिजाइन और विकसित करने का तकनीकी ज्ञान।
कम लागत वाले गोलाई परीक्षक के विकास की सुविधा प्रदान करना।
प्रौद्योगिकी प्रदर्शक।
अनुसंधान प्रकाशन।

डीएसआईआर के अध्ययन की परियोजना "भारत में अल्ट्रा सटीक मशीनिंग प्रौद्योगिकी के विकास और तैनाती के लिए मांग, अवसर, चुनौतियां।"

उद्देश्य:

अध्ययन का मुख्य उद्देश्य भारतीय बाजार परिदृश्य में, अल्ट्रा सटीक मशीनिंग प्रौद्योगिकी की उभरती आवश्यकताओं, विकास और स्वदेशी प्रौद्योगिकी की तैनाती में चुनौतियों का पता लगाना है। इसमें निम्नलिखित शामिल हैं:

अल्ट्रा प्रिसिजन मैकिंग प्रौद्योगिकियोंको आत्मसात करने की मांग का पता लगाने के लिए।
अल्ट्रा प्रिसिजनप्रौद्योगिकियोंमेंप्रौद्योगिकीअंतराल (मशीनऔरमशीनिंगप्रौद्योगिकी, प्रक्रिया विकास, माप) की पहचान करना।
आवश्यक स्वदेशी विकास कार्यों की पहचान करना।
अल्ट्रा प्रिसिजन मशीनिंग टेक्नोलॉजी के लिए स्वदेशी तकनीक के विकास और स्थापना में चुनौतियों का अध्ययन करना।

वितरणयोग्यः

इस अध्ययन परियोजना का उत्पादन और परिणाम एक विस्तृत परियोजना रिपोर्ट होगी;

अल्ट्रा-सटीक मशीनिंग प्रौद्योगिकी में वैश्विक परिदृश्य के संबंध में स्वदेशी प्रौद्योगिकी की बेंचमार्किंग।
अल्ट्रा-सटीक मशीनिंग प्रौद्योगिकी में मांग, रुझान।
अल्ट्रा-सटीक मशीनिंग प्रौद्योगिकी में अवसर और चुनौतियां।

हमारे देश में अल्ट्रा-सटीक मशीनिंग तकनीक के लिए स्कोप, आवश्यकताएं और बाजार क्षमता।

प्लेनेटरी बॉल मिल

Make: फ्रिट्सच, पल्सवर्सेट 7 प्रीमियम लाइन

विशेष विवरण:

पैरमीटर	मूल्य
मुख्य डिस्क स्पीड	100- 1,100 आरपीएम
नमूना मात्रा	0.5एमएल से 70एमएल
ग्राइडिंग बॉल	टंगस्टन कार्बाइड और ज़िरकोनियम ऑक्साइड

अनुप्रयोग:

ग्राइडिंगऑफ ब्रिटल – नैनो और माइक्रोन स्तर तक फिबरस सामग्री
सिरेमिक और धातुओं से नैनो पाउडर का विकास

Contact Details:

श्री कुमार अभिनव (वैज्ञानिक-सी)
ईमेल: abhinav[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 8884004124

श्री प्रकाश विनोद (वैज्ञानिक-एफ, केंद्र प्रमुख – एसएमपीएम)
ईमेल: prakashv[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188243

स्कैनिंग टनलिंग माइक्रोस्कोप (एसटीएम)

विशेष विवरण:

पीजो ट्यूब स्कैनर	रेंज: एक्सवाई – 600 एनएम, जेड – 200 एनएम रिज़ॉल्यूशनएक्सवाई – 0.01 एनएम, जेड – 0.003 एनएम
टिप / नमूना कोर्स मूवमेंट	सभी तीनों दिशाओं में मैनुअल रेंज: 13 मिमी एक्स एवं जेड में 0.5 मिमी का रिज़ॉल्यूशन और वाई (ऊर्ध्वाधर) दिशा में 5 मिमी का रिज़ॉल्यूशन
इलेक्ट्रॉनिक्स	टनलिंग करेंट प्रैम्प लाभ: 100एमवी /एऩए, शोर: 0.02एनआर्मस नमूना पूर्वाग्रह: ± 10 वी
सॉफ्टवेयर	जीयूआई (ग्राफिकल यूजर इंटरफेस) उपयोगकर्ता के अनुकूल सॉफ्टवेयर आधारित है
नमूना	ऊर्ध्वाधर नमूना प्लेसमेंट 30 मिमी व्यास तक, 5 मिमी मोटी
कंपन आइसोलेशन	5 हर्ट्ज से ऊपर, 80% से ऊपर की आइसोलेशन क्षमता
ध्वनिक आइसोलेशन	20 डीबीएसे ऊपर ध्वनि क्षीणन

अनुप्रयोग:

सतह आकृति विज्ञान अध्ययन
आणविक संबंध अध्ययन
स्थानीय इलेक्ट्रॉन व्यवहार अध्ययन
सामूहिक इलेक्ट्रॉन व्यवहार अध्ययन
नैनो मेट्रिक स्केल में हेरफेर

Contact Details:

श्री विथुन एस एन (वैज्ञानिक-सी)
ईमेल: vithun[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 9844349034

चुंबकीय अपघर्षक परिष्करण मैग्नोसुरफ

विशेष विवरण:

कार्य व्यास	Ø6-20एमएम
सतह खुरदरापन	रा 20एनएमया बेहतर
पावर	0.5केडब्ल्यू
सामग्री निकालना	1-5एमएम
आयाम (ल.xचौ.xऊं)	320 मिमी x 280 मिमी x 220 मिमी
मीडिया:	चुंबकीय घर्षण मीडिया

अनुप्रयोग:

आईसी इंजन वाल्व, बियरिंग्स, आईडी और ओडी, परिशुद्धता बेलनाकार घटकों और ट्यूबों, मोल्ड्स और अन्य जैसे घटकों के लिए सुपर परिष्करण।

Contact Details:

श्री नवीन के (वैज्ञानिक-सी)
ईमेल: naveen[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 7411956670

सूक्ष्म 3डी माइक्रोफैब्रिकेशन प्रणाली

विशेष विवरण:

न्यूनतम सुविधा का आकार	<10µm
अधिकतम प्रिंट आकार	14X8X25एमएम
परत की मोटाई	5um से 100µm
जेड एक्सिस एकुरेंसी	1µm
यूवी एलईडी स्रोत	385/405एनएम
• रेसिपे मापदंडों के साथ अनुकूलित रेजिन
• अनुकूलितजैवसंगतरेजिन

अनुप्रयोग:

एमईएमएस, आभूषण, बायोमेडिकल उद्योगों में विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए पॉलिमर आधारित 3 डी माइक्रोफैब्रिकेशन।
जटिल 3 डी माइक्रो घटकों का निर्माण
एमईएमएस सेंसर, एक्चुएटर और माइक्रो बेलोज़
सूक्ष्म द्रव चैनल और सूक्ष्म द्रव उपकरण
बायो मेडिकल इम्प्लांट्स जैसे कोरोनरी स्टेंट और स्काफफोल्डस
ऑप्टिक्स उद्योग के लिए माइक्रो मोल्ड्स और लेंस

Contact Details:

श्री हरिकृष्णा एस टी (वैज्ञानिक-सी)
ईमेल: harithota[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 7795090050

घर्षण प्रवाह फिनिशिंग मशीन (एएफएफएम-150डी)

विशेष विवरण:

घटक की अधिकतम ऊंचाई	10 से 300 मिमी
हाइड्रोलिक दबाव रेंज	15 से 100 बार
मीडिया सिलेंडर बोर व्यास	150 मिमी
मीडिया पिस्टन स्ट्रोक	250 मिमी
मीडिया	विस्को-इलेस्टिक अपघर्षक लेदेन बहुलक
नियंत्रक	मिनी पीएलसी- एचएमआई आधारित

अनुप्रयोग:

माइक्रो / नैनॉफिनिशिंग, रेडियसिंग और डिबगिंग की विस्तृत श्रृंखला के लिए औद्योगिक अनुप्रयोग: एयरोस्पेस, एनर्जी, एक्सट्रूज़न मर जाता है, मेडिकल, ऑटोमोटिव, हाइड्रोलिक्स / न्यूमेटिक्स और प्रीसेशन मैकेनिकलकंप्यूटर।

Contact Details:

श्री मंजुनाथ एम ए (वैज्ञानिक-सी)
ईमेल: manjunathma[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 9686267268

अल्ट्रा प्रेसिजन टर्निंग मशीन (नैनोशेप टी250)

विशेष विवरण:

एक्सिस की संख्या	3 एक्सिस (एक्स एवं जेड, सी-एक्सिस
अधिकतम वर्कपीस आकार	व्यास 250मीमी, लंबाई 150मीमी
स्पिंडल रनिंग एकुरेंसी	≤ 25एनएम
कार्य होल्डिंग स्पिंडलकी अधिकतम गति	8,000 आरपीएम
स्थिति एकुरेंसी	≤ 0.3µm
स्लाइड्स की स्ट्रेटनेस	≤ 0.3µm
वर्क पीसएकुरेंसी
75 मिमी व्यास उत्तल (आरओसी-250 मिमी): एएल6061 टी6 मिश्र धातु	सरफेस रफनेस (रा) <2 एनएम, फॉर्म एक्यूरेसी (पी-वी) <0.2 माइक्रोन
कठोर स्टील -60 एचआरसी फ्लैट	सरफेस रफनेस (रा) <14 एनएम

अनुप्रयोग:

अंतरिक्ष और खगोलीय प्रणाली के लिए धातु दर्पण
इलेक्ट्रो-ऑप्टिकल सिस्टम के लिए दर्पण
एलईडी फोटोनिक्स और मोबाइल कैमरा लेंस के लिए डाई और मोल्ड्स
ऑप्थेल्मिक के लिए नए साँचे और लेंस, मेडिकल सेक्टर्स के लिए इंट्रो ओकुलर और कॉन्टैक्ट लेंस
नाइट विजन और थर्मोग्राफी के लिए लेंस
अल्ट्राप्रिसिजन मैकेनिकलघटक

Contact Details:

श्री गोपी कृष्ण एस (वैज्ञानिक-डी)
ईमेल: gopi[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188361,
मोबाइल: +91 9686267268

इंटेलिजेंट अल्ट्रा प्रिसिजन डायमंड टर्निंग मशीन (आईयूपीटीएम)

विशेष विवरण:

एक्सिस की संख्या	3 एक्सिस (एक्स एंड जेड, टी-कॉन्फ़िगरेशन, सी-एक्सिस)
वर्क हैड स्पिंडल	एरोस्टेटिक बियरिंग, इंटीग्रेटेड मोटर स्पिंडल
स्लाइड	वायवीय असर, लीनियर मोटर चालित स्लाइड
नियंत्रण प्रणाली	एडाप्टिव कंट्रोल टेक्नोलॉजी के साथ ओपन आर्किटेक्चर मोशन कंट्रोलर
प्रोग्रामिंग रेजॉलुशन	0.01एनएम लीनियर
प्राप्त प्रदर्शन	एल्युमिनियम पर सरफेस रफनेस8एनएमरा
लक्षित प्रदर्शन	सरफेस रफनेस ≤ 2एनएमरा; फॉर्म एकुरेंसी≤ 0.1µm
कार्य होल्डिंग स्पिंडल अधिकतम गति	10,000 आरपीएम
फीडबैक रेजॉलुशन	< 50 पीकोमीटर
स्थिति एकुरेंसी	≤ 0.4µm
स्लाइड्स की स्ट्रेटनेस	≤ 0.5µm

अनुप्रयोग:

गोलाकार, गोलाकार लेंस और दर्पण, लेजर अनुप्रयोगों के लिए धातु दर्पण
अंतरिक्ष अनुप्रयोगों के लिए विशेष दर्पण,
नेत्र और एलईडी लेंस निर्माण के लिए नए साँचे, फ्री फार्म फार्म सतह
परिशुद्धता असर घटक, माइक्रो लेंस सरणी, माइक्रो मोल्ड और माइक्रो स्ट्रक्चर्स

Contact Details:

श्री प्रकाश विनोद (वैज्ञानिक-एफ, केंद्र प्रमुख-एसएमपीएम)
ईमेल: prakashv[at]cmti[dot]res[dot]in
दूरभाष: + 91-80-22188243

इंटेलिजेंट अल्ट्रा प्रिसिजन डायमंड टर्निंग मशीन (आईयूपीटीएम)

इंटेलिजेंट अल्ट्रा प्रिसिजन टर्निंग मशीन (आईयूपीटीएम) आर्ट मशीन की एक अवस्था है, जिसे सीएमटीआई द्वारा विकसित किया जाता है, जो ऑप्टिकल गुणवत्ता के साथ अलौह घटकों का उत्पादन करती है (कुछ नैनोमीटर के क्रम में सतह खत्म और उप-माइक्रोन रेंज में सटीकता)। घटकों पर प्राप्त नैनो स्तर की सतह खत्म। 5एनएमकी परिमाण में है। आईयूपीटीएम में अत्याधुनिक ओपन आर्किटेक्चर मोशन कंट्रोलर द्वारा निर्मित इन-बिल्ट रियल टाइम मशीन त्रुटि क्षतिपूर्ति, मशीन डायग्नोस्टिक्स और प्रग्नोस्टिक्स मॉड्यूल और अनुकूली नियंत्रण सुविधाओं के साथ अल्ट्रा सटीक मोशन सिस्टम (स्पिंडल और स्लाइड के लिए) है। मशीन में उत्कृष्ट स्थिर, गतिशील और थर्मल व्यवहार है और नैनोमीटर के क्रम में एकुरेंसी है।

स्पिंडल- इंटीग्रेटेड स्पिंडल मोटर
स्लाइड – लीनियर मोटर चालित स्लाइड
बेस- प्राकृतिक ग्रेनाइट बेड
सक्रिय लेवलिंग के साथ वायवीय कंपन आइसोलेटर्स
वर्क होल्डिंग – वैक्यूम चक
रियल टाइम मशीन एरर कंपनशेसन, रियल टाइम मशीन डायनोस्टिक
नियंत्रण प्रणाली – ओपन आर्किटेक्चर सीएनसी नियंत्रक, एडेप्टिव नियंत्रण
कमांड रिज़ॉल्यूशन – 1एनएम; प्रतिक्रिया डिवाइस रिज़ॉल्यूशन <50 पीएम

अनुप्रयोग:

गोलाकार, गोलाकार लेंस और दर्पण, लेजर अनुप्रयोगों के लिए धातु दर्पण
अंतरिक्ष अनुप्रयोगों के लिए विशेष दर्पण,
नेत्र और एलईडी लेंस निर्माण के लिए नए साँचे, फ्री फार्म सतह
परिशुद्धता बीरिंग घटक, माइक्रो लेंस सरणी, माइक्रो मोल्ड और माइक्रो स्ट्रक्चर्स

तकनीकी विनिर्देश:

एक्सिस की संख्या	3 एक्सिस (एक्स एंड जेड, टी-कॉन्फ़िगरेशन, सी-एक्सिस)
वर्क हैड स्पिंडल	एरोस्टेटिक बियरिंग, इंटीग्रेटेड मोटर स्पिंडल
स्लाइड	एयरोस्टेटीक बिरींग, लीनियर मोटर चालित स्लाइड
नियंत्रण प्रणाली	एडाप्टिव कंट्रोल टेक्नोलॉजी के साथ ओपन आर्किटेक्चर मोशन कंट्रोलर
प्रोग्रामिंग रेजॉलुशन	0.01एनएम लीनियर
प्राप्त प्रदर्शन	एल्युमिनियम पर सरफेस रफनेस8एनएमरा
लक्षित प्रदर्शन	सरफेस रफनेस ≤ 2एनएमरा; फॉर्म एकुरेंसी≤ 0.1µm
कार्य होल्डिंग स्पिंडल अधिकतम गति	10,000 आरपीएम
फीडबैक रेजॉलुशन	< 50 पीकोमीटर
स्थिति एकुरेंसी	≤ 0.4µm
स्लाइड्स की स्ट्रेटनेस	≤ 0.5µm

अल्ट्रा प्रेसिजन टर्निंग मशीन (नैनोशेप टी250)

नैनोशेपटी250 एक अत्यधिक कठोर और सटीक टर्निंग मशीन है, जिसे सीएमटीआई द्वारा विकसित किया गया है, जो सिंगल पॉइंट डायमंड टर्निंग (एसपीडीटी) और अल्ट्रा प्रिसिजन हार्ड टर्निंग के लिए सक्षम है, जो कि अलौह, लौह और आईआरसामग्री घटकों के उत्पादन के लिए अत्याधुनिक तकनीकों से लैस है। ऑप्टिकल गुणवत्ता सरफेस फिनिशिंग (कुछ नैनोमीटर के क्रम में सरफेस फिनिशिंग और उप-माइक्रोन रेंज में सटीकता)। घटकों पर प्राप्त नैनो स्तर की सतह की फिनिश≤2 एनएम रा * के परिमाण में है। मशीन में उत्कृष्ट स्थिर, गतिशील और थर्मल व्यवहार है और नैनोमीटर के क्रम में एकुरेंसी है।

मुख्य विशेषताएं:

उच्च कठोर हाइड्रोस्टेटिक तेल असर स्लाइड
अल्ट्रा सटीक एयरोस्टेटिक स्पिंडल
कंपन अलगाव प्रणाली और सक्रिय समतलन के साथ प्राकृतिक ग्रेनाइट बेड
स्वतंत्र स्लाइड विन्यास
एडाप्टिव कंट्रोल टेक्नोलॉजी के साथ ओपन आर्किटेक्चर मोशन कंट्रोलर
थर्मली स्थिर स्लाइड और धुरी के लिए एकीकृत चिलर

अनुप्रयोग:

अंतरिक्ष और खगोलीय प्रणाली के लिए धातु दर्पण
इलेक्ट्रो-ऑप्टिकल सिस्टम के लिए दर्पण
एलईडी फोटोनिक्स और मोबाइल कैमरा लेंस के लिए डाई और मोल्ड्स
ऑप्थेल्मिक के लिए नए नए साँचे और लेंस, मेडिकल सेक्टर्स के लिए इंट्रो ओकुलर और कॉन्टैक्ट लेंस
नाइट विजन और थर्मोग्राफी के लिए लेंस
अल्ट्रा अल्ट्रा मैकेनिकल घटक

तकनीकी विनिर्देश:

एक्सिस की संख्या	3 एक्सिस (एक्स एवं जेड, सी-एक्सिस
अधिकतम वर्कपीस आकार	व्यास 250मीमी, लंबाई 150मीमी
स्पिंडल रनिंग एकुरेंसी	≤ 25एनएम
कार्य होल्डिंग स्पिंडलकी अधिकतम गति	8,000 आरपीएम
स्थिति एकुरेंसी	≤ 0.3µm
स्लाइड्स की स्ट्रेटनेस	≤ 0.3µm
वर्क पीसएकुरेंसी
75 मिमी व्यास उत्तल (आरओसी-250 मिमी): एएल6061 टी6 एलॉय	सरफेस रफनेस (रा) <2 एनएम, फॉर्म एक्यूरेसी (पी-वी) <0.2 माइक्रोन
कठोर स्टील -60 एचआरसी फ्लैट	सरफेस रफनेस (रा) <14 एनएम

अल्ट्रा स्टिफ अल्ट्रा प्रिसिजन हाइड्रोस्टेटिक स्लाइड (नैनो स्लाइडवे एचएस200)

अल्ट्रा सटीक के क्षेत्र में सीएमटीआईके विशाल अनुभव ने हमें हाइड्रोस्टैटिक असर प्रणाली के विकास के लिए प्रेरित किया। नैनो स्लाइडवेअल्ट्रा सटीक मोड़, मिलिंग, बोरिंग और पीस अनुप्रयोगों के लिए बहुत उच्च कठोरता और डंपिंग के साथ रैखिक गति में उत्कृष्ट प्रदर्शन प्रदान करता है। नैनोस्लाइडवे को विशेष रूप से असाधारण उच्च कठोरता और उत्कृष्ट ज्यामितीय विशेषताओं के लिए डिज़ाइन और निर्मित किया गया है। नैनो स्लाइडवे में बिरींग कठोरता के साथ एक बॉक्स प्रकार प्रिलोडेड हाइड्रोस्टेटिकअसर शामिल है जो भारी या ऑफसेट लोडिंग के लिए आदर्श है।

मुख्य विशेषताएः

सैद्धांतिक अनंत जीवनकाल के साथ हाइड्रोस्टेटिक ऑयल बिरींग
सही गति, शून्य स्टिक-स्लिप, शून्य बैकलैश और अधिकतम स्थिति एकुरेंसी
भारी भार और उत्कृष्ट ज्यामितीय प्रदर्शन के लिए उच्च स्टिफनेस
मशीनिंग प्रक्रिया से कंपन के लिए ऑयल फिल्म से उच्च नम प्रभाव
ऑयल और अतिरिक्त वाटर कुलिंग करके गर्मी लंपटता के साथ, थर्मल स्थिर
कम कोजिंगबल के साथ एकीकृत रैखिक मोटर के साथ डायरेक्ट ड्राइव
स्थिति प्रतिक्रिया के लिए अल्ट्रा सटीक रैखिक ग्लास स्केल

अनुप्रयोग:

नैनो स्लीडवे एचएस 200 (अल्ट्रा कठोर अल्ट्रा सटीक हाइड्रोस्टेटिक स्लाइड) आदर्श रूप से विकास के लिए अनुकूल है
अल्ट्राप्रिसिजनटर्निंगमशीन,
अल्ट्रा प्रिसिजन मिलिंग मशीन,
अल्ट्रा प्रिसिजन बोरिंग,
जिग बोरिंग और ग्राइडिंग मशीन।

तकनीकी विनिर्देश:

मॉडल एवं प्रकार	एचएस 200; फुल्ली कोल्सट्रेन्ड ऑयल हाइड्रोस्टेटिक, बॉक्स वे स्लाइड
ट्रेवल	200 मीमी (8 इंच)
लोड क्षमता और स्टिफनेस	1000किग्रा (10,000 एन) 1000एन/µm
ड्राइव प्रणाली	ब्रशलेस डीसी लीनियर मोटर
फीडबैक प्रकार	अल्ट्रा प्रिसिजन ग्लास स्केल
फीडबैक रिजॉल्यूशन	32 पिकोमीटर
स्ट्रेटनेस	हॉरिज़ॉन्टलः 0.2µm ओबर फुल ट्रेवल
फीडरेट (वर्किंग)	1000मीमी/न्यून. तक

अल्ट्रा सटीक एयरोस्टेटिक बियरिंग स्पिंडल (नैनोस्पिन-एएम 80)

सीएमटीआई ने स्वदेशी रूप से अत्याधुनिक एयरोस्टेटिक बियरिंग स्पिंडल की एक स्थिति विकसित की है जिसका नाम नैनोस्पिन है – अति सटीक मशीनिंग और मेट्रोलॉजी अनुप्रयोगों के लिए नैनोमीटर गति सटीकता के साथ एआईएम⁸⁰ नेनोस्पिन में उत्कृष्ट स्थिर, गतिशील और थर्मल व्यवहार है और नैनोमीटर के क्रम में धुरी पर चलने वाली एकुरेंसी है।

मुख्य विशेषताएं:

नैनोमीटर में मोशन एरर
उच्च बीरिंग कठोरता
उच्च डम्पिंग
उच्च आयामी स्थिरता
शून्य स्थैतिक स्टेबिलिटी के पास
शून्य थर्मल स्टेटिक के पास
कोई हार्मोनिक्स नहीं
एयर हैमर का प्रभाव नहीं
पटलीय प्रवाह
उच्च कार्य गति सीमा
एकीकृत मोटर
वैक्यूम चक के लिए वैक्यूम स्पिंडल
वाटर कूल्ड

अनुप्रयोग:

एयरोस्टेटिक बेयरिंग स्पिंडल अल्ट्रा सटीक मशीनों और मेट्रोलॉजी उपकरणों के दिल के रूप में कार्य करता है।

सिंगल पॉइंट डायमंड टर्निंग (एसपीडीटी)
अल्ट्रा सटीक मोड़
अल्ट्रा प्रिसिजन मिलिंग और माइक्रो मिलिंग
अल्ट्रा प्रेसिजन पीस
फॉर्म टेस्टर्स

तकनीकी विनिर्देशनः

बीरिंग प्रकार	एयरोस्टेटिक बीरिंग
मोशन त्रुटि	≤ 100एनएम
स्पिंडल गति	5,000 आरपीएम
स्टिफनेस	रेडियल – 750एन एक्सल – 1000एन
अधिकतम लोड क्षमता
मोटर प्रकार	इंटीग्रेटेड डीसी
टोक	5एन-एम
कूलिंग	वाटर कूलिंग

अपघर्षण प्रवाह फिनिशिंग मशीन (एएफएफएम-150डी)

आईआईटीकानपुर के सहयोग से सीएमटीआईने स्वदेशी रूप से एब्रेसिव फ्लो फिनिशिंग मशीन विकसित की है। मशीन जटिल घटकों को खत्म करने, डिबगिंग और पॉलिशिंग जटिल और मुश्किल खत्म करने में सक्षम है। एएफएम एक एर्गोनोमिक है, जो पीएलसी आधारित एचएमआई नियंत्रित प्रणाली और सूक्ष्म और नैनो परिष्करण के लिए आर्थिक रूप से व्यवहार्य वैकल्पिक के साथ आसान रखरखाव डिजाइन के साथ उपयोगकर्ता के अनुकूल है।

मुख्य विशेषताएं:

सुपर फिनिश / डेब्यू आईडी और घटकों के आयुध डिपो
तेज किनारों की छंटाई
दुर्गम क्षेत्रों और जटिल आंतरिक मार्ग को फिनिश करना।
घर्षण लादेन बहुलक मीडिया का तापमान नियंत्रण
कई मार्गो का एक साथ प्रसंस्करण

अनुप्रयोग:

घटक की अधिकतम ऊंचाई	10 से 300 मीमी
हाइड्रोलिक दबाव रेंज	15 से 100 बार
मीडिया सिलेंडर बोर व्यास	150मीमी
मीडिया पिस्टन स्ट्रोक	250मीमी
मीडिया	विस्को-इलास्टिक अपघर्षक लादेन बहुलक
नियंत्रक	मिनी पीएलसी- एचएमआई आधारित

माइक्रोफैब्रिकेशन प्रणाली (सूक्ष्म 3डी)

रेवोलुशनरी माइक्रो-फैब्रिकेशन सिस्टम जटिल 3 डी अल्ट्रा फाइन सोलिड्स को स्थानिक प्रकाश मॉड्यूलेशन तकनीक के माध्यम से कुछ ही समय में सक्षम बनाता है।

मुख्य विशेषताएं:

रेवोलुशनरी सूक्ष्म निर्माण प्रणाली स्थानिक प्रकाश मॉड्यूलेशन तकनीक के माध्यम से थोड़े समय में जटिल 3 डी अल्ट्रा फाइन ठोस बनाने में सक्षम बनाती है।
एक यूवी-क्यूरेट रेजिन, जिसमें हाईथ्रो अनचैटेड रिज़ॉल्यूशन होता है, एक उच्च-परिशुद्धता डिजिटल लाइट एक्सपोज़र मैकेनिज़्म द्वारा एक सुपर-प्रिसिजन रिज़ॉल्यूशन में ठीक किया जाता है।
3डी संरचनाएं परत-दर-परत बनाने की विधि द्वारा बनाई जाती हैं, जिसके तहत 3-डी अल्ट्रा-फाइन सोलिड्स को बार-बार प्रकाश जोखिम और रेसिन कोटिंग द्वारा स्वचालित रूप से बनाया जाता है।
अल्ट्रा-फाइन फीचर्स डाउन टू 10umलेवल कैब फैब्रिकेटेड
परत की मोटाई को 5umस्तर तक अनुकूलित किया जा सकता है ताकि यूवी प्रक्षेपण के निरंतर एक्सपोजर के साथ सीढ़ी प्रभाव को समाप्त किया जा सके।

अनुप्रयोग:

एमईएमएस, आभूषण, बायोमेडिकल उद्योगों में विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए पॉलिमर आधारित 3 डी माइक्रोफैब्रिकेशन।
जटिल 3 डी माइक्रो घटकों का निर्माण
एमईएमएस सेंसर, एक्चुएटर और माइक्रो बेलोज़
सूक्ष्म द्रव चैनल और सूक्ष्म द्रव उपकरण
बायो मेडिकल इम्प्लांट्स जैसे कोरोनरी स्टेंट और स्कॉफफोल्ड

ऑप्टिक्स उद्योग के लिए माइक्रो मोल्ड्स और लेंस

न्यूनतम फीचर आकार	<10µm
अधिकतम प्रिंट आकार	14X8X25मीमी
लेयर थिकनेस	5 µm to 100µm
जेड एक्सिस एकुरेंसी	1µm
यूवी एलईडी स्रोत	385/405एनएम
· रेसिपी मापदंडों के साथ अनुकूलित रेजिन
· अनुकूलितजैवसंगतरेजिन

क्लोस्ड लूप थ्री डायरेक्शन नैनो पोजिशनिंग स्टेज (अतिसुक्ष्मएमपीएस100)

3 दिशात्मक बंद लूप ट्रांसलेशनल नैनो पोजिशनिंग स्टेज जिसमें उच्च रिज़ॉल्यूशन, बेहतर सटीकता, अच्छी पुनरावृत्ति होती है और एक्सिसों के बीच न्यूनतम डिकॉप्ड मोशन भी होता है। नैनो पोजिशनिंग अवस्था प्रोटोटाइप एक्सवाईदिशा में 70 माइक्रोन और जेडदिशा में 15 माइक्रोन क्रमशः 1एनएम (एक्सवाई) और 0.3एनएममें जेडरेजोल्यूशन के साथ ले जाने में सक्षम है।

मुख्य विशेषताएं:

100 माइक्रोन एक्सवाईगति की सीमा
गति की 15 माइक्रोन जेड रेंज
न्यूनतम क्रॉस एक्सिस मोशन
बंद लूप नियंत्रण
बेहतर थर्मल स्थिरता
बेहतर गतिशील प्रतिक्रिया
कम हिस्टैरिसीस
कम गैर-रैखिकता त्रुटि
उपयोगकर्ता परिभाषित गति प्रोफाइल (स्कैनिंग अनुप्रयोग)
उपयोगकर्ता के अनुकूल

अनुप्रयोग:

स्कैनिंग जांच माइक्रोस्कोप
स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप
नैनोइडेंटर
नैनोलिथोग्राफी

मुख्य विशेषताएं:

100 माइक्रोन एक्सवाईगति की सीमा
गति की 15 माइक्रोन जेड रेंज
न्यूनतम क्रॉस एक्सिस मोशन
बंद लूप नियंत्रण
बेहतर थर्मल स्थिरता
बेहतर गतिशील प्रतिक्रिया
कम हिस्टैरिसीस
कम गैर-रैखिकता त्रुटि
उपयोगकर्ता परिभाषित गति प्रोफाइल (स्कैनिंग अनुप्रयोग)
उपयोगकर्ता के अनुकूल

अनुप्रयोग:

स्कैनिंग जांच माइक्रोस्कोप
स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप
नैनोइडेंटर
नैनोलिथोग्राफी

मोशन की रेंज (एक्सवाई)	100μm
मोशन की रेंज (जेड)	15μm
रिजॉल्यूशन(एक्सवाई)	1एनएम
रिजॉल्यूशन(जेड)	0.2 एनएम
रिपिटएबिलिटी	2 एनएम
गुंजयमान आवृत्ति	0.2 एनएम
अधिकतम भार	0.25 कि.ग्रा.

स्कैनिंग टनलिंग माइक्रोस्कोप (नैनो अवलोक एसटीएम –600)

आई2एनटेक्नोलॉजीज के सहयोग से सीएमटीआईने एक पोर्टेबल स्कैनिंग टनलिंग माइक्रोस्कोप विकसित किया है, जो परमाणु संकल्प पर इमेजिंग नमूने में सक्षम है। प्रौद्योगिकी मुख्य रूप से शैक्षणिक संस्थानों, अनुसंधान एवं विकास प्रयोगशालाओं और उद्योगों की आवश्यकता को संबोधित करती है, अपेक्षाकृत सस्ती एसटीएम सेटअप के साथ जिसका उपयोग नैनो प्रौद्योगिकी अनुसंधान में किया जा सकता है। कॉम्पैक्ट पोर्टेबल सिस्टम जो संभावित रूप से त्वरित, विश्वसनीय और दोहराने योग्य माप के साथ सतह स्थलाकृति प्राप्त करता है।

मुख्य विशेषताएं:

प्रयोग करने में आसान
उच्च संकल्प
टेबल टॉप सिस्टम
पोर्टेबल और कॉम्पैक्ट
नमूना के लिए टिप दृष्टिकोण के देखें
टिप और नमूने का त्वरित आदान-प्रदान
निर्मित कंपन और एकास्टिक इनक्लोजर

अनुप्रयोग

सतह आकृति विज्ञान अध्ययन
आणविक संबंध अध्ययन
स्थानीय इलेक्ट्रॉन व्यवहार अध्ययन
सामूहिक इलेक्ट्रॉन व्यवहार अध्ययन
नैनो मेट्रिक स्केल में मनीपुलेशन

तकनीकी विनिर्देशनः

पीजो ट्यूब स्कैनर	रेंजः एक्सवाई-600एनएम, जेड-200एनएम रिजॉल्यूशन एक्सवाई-0.01एनएम, जेड-0.003एनएम
टीप/नमूना कोर्स मूवमेंट	सभी तीनों दिशाओं में मैन्युअल रेंजः 13मीमी एक्स और जेड में 0.5मामी रिजॉल्यूशन और वाई(वर्टिकल) दिशा में 5मीमी रिजॉल्यूशन
इलेक्ट्रॉनिक्स	टनलिंग करेंट प्रैम्पः गेनः 100एमवी/एनए, ध्वनिः 0.02एआर्मस नमूना बीइसः± 10 वी
सॉफ्टवेयर	जीयूआई ((ग्राफिकल यूजर इंटरफेस) आधारित उपयोगकर्ता के अनुकूल सॉफ्टवेयर
नमूना	वर्टिकल नमूना प्लेसमेंट 30 मिमी व्यास तक, 5 मिमी मोटी
कंपन अलगाव आइसोलेशन	5 हर्ट्ज से ऊपर, 80% से ऊपर की आइसोलेशन क्षमता
ध्वनिक आइसोलेशन	20डीबीए से ऊपर ध्वनि क्षीणन

चुंबकीय घर्षण परिष्करण (मैग्नोसर्फ)

सीएमटीआईने औद्योगिक अनुप्रयोग में प्रयुक्त घटकों के परिष्करण के लिए एमएएफप्रक्रिया प्रौद्योगिकी विकसित की है। एमएएफप्रक्रिया में, चुंबकीय क्षेत्र के प्रभाव में, एक लचीले घर्षण ब्रश बनाने के लिए चुंबकीय रेखा के साथ चुंबकीय अपघर्षक व्यवस्थित रूप से व्यवस्थित होते हैं। फिनिशिंग तब होती है जब चुंबकीय अपघर्षक ब्रश और काम के टुकड़े के बीच सापेक्ष गति होती है। सीएमटीआई एमएएफ प्रौद्योगिकी का उपयोग करके सटीक घटकों के नैनो परिष्करण में औद्योगिक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए उपकरण और उपकरण विकसित कर सकता है।

मुख्य विशेषताएं:

परिष्करण के लिए प्रक्रिया तुलनात्मक रूप से बहुत किफायती है
20एऩएमया बेहतर करने के लिए सरफेस फिनिश प्राप्त कर सकते हैं
ब्रश की कठोरता को अलग करके एमआरआरको नियंत्रित किया जा सकता है
अपघर्षक स्वयं संरेखित और पैनापन के रूप में कोई ड्रेसिंग की आवश्यकता नहीं है।

अनुप्रयोग:

आईसी इंजन वाल्व, बियरिंग्स, आईडी और प्रिसिजनबेलनाकार घटकों और ट्यूबों, मोल्ड्सऔर कई की ओडी जैसे घटकों के लिए सुपर परिष्करण।

तकनीकी विनिर्देश:

कार्य व्यास	Ø6-20मीमी
सरफेस रफनेस एचिबएबल	रा 20एनएमया बेहतर
पावर	0.5केडब्ल्यू
सामाग्री हटाना	1-5एमएम
व्यास (ल. xचौxऊ.)	320 मिमी x 280 मिमी x 220 मिमी
मीडियाः	विस्को-इलेस्टिक अपघर्षक लेदेन पॉलीमर

स्पिंडल त्रुटि विश्लेषक

स्पिंडल एरर स्कोप, स्टैंडअलोन रनिंग एक्यूरेसी मॉड्यूल है, जिसे सीएमटीआई द्वारा विकसित किया गया है, जो स्पैकल रनिंग एक्यूरेसी के माप और विश्लेषण के लिए है। इस विश्लेषक का उपयोग करके स्पिंडल त्रुटि गतियों का मापन अंतर्राष्ट्रीय मानकों (एएसएमईबी5.54, आईएसओ230-7) के अनुसार किया जा सकता है। प्रणाली दोनों निश्चित और घूर्णन संवेदनशील दिशाओं के साथ स्पिंडल के ज्यामितीय त्रुटियों (अक्षीय, रेडियल और झुकाव) को माप सकती है। विश्लेषण त्रुटियों (तुल्यकालिक और अतुल्यकालिक) को अलग कर सकता है। आवृत्ति विश्लेषण त्रुटि के स्रोत की पहचान करने में मदद कर सकता है। थर्मल ड्रिफ्ट को मापने और विश्लेषण करने के लिए विश्लेषक का उपयोग भी किया जा सकता है।

मुख्य विशेषताएः

स्थिर और संवेदनशील दिशा स्पिंडल को घुमाने के लिए मॉड्यूल के साथ स्टैंडअलोन प्रणाली
नैनो सटीक एड़ी वर्तमान जांच के माध्यम से गैर-संपर्क विस्थापन माप
एनआई-हार्डवेयर के साथ डाटा अधिग्रहण
ज्यामितीय त्रुटि माप और पृथक्करण
त्रुटि के मूल कारण की पहचान के लिए आवृत्ति विश्लेषण
थर्मल ड्रीफ्ट माप

अनुप्रयोग:

सभी मशीन उपकरण धुरी निर्माताओं
सभी मशीन उपकरण निर्माता
सभी स्पिंडल परीक्षण और मरम्मत संगठन
मशीन उपकरण परीक्षण और प्रमाणन एजेंसियां

तकनीकी विनिर्देशनः

पैरामीटर / विनिर्देशन	विवरण
जांच का प्रकार	अल्ट्रा प्रिसिजन कैपेसिटिव जांच
जांच की संख्या	3
जांच का स्थैतिक रिजॉल्यूशन	1एनएम
संवेदक रैखिकता	पूर्ण पैमाने का 0.15% (200umरेंज के लिए ~ 300 एनएम)
मापन रेंज	200 µm
जांच संवेदनशीलता	उपयोगकर्ता परिभाषित (0.04 वी / 4 µm)
एक्सिस/चैनलों की संख्या	3
आरपीएम रेंज	500-6000
सैंपलिंग रेट	10 किलोहर्ट्ज तक
प्रदर्शित रिवोलूशन	प्रत्येक अद्यतन के लिए 32
सिस्टम क्षमता (मान्य के रूप में)	0.5 माइक्रोन और ऊपर
एक्सल त्रुटि	हाँ
रेडियल त्रुटि – फिक्स्ड सेंसिटिव	हाँ
रेडियल त्रुटि – रोटेशन सेंसिटिव	हाँ
एफएफटी	हाँ
ओस्कील्लोस्कोपफंक्शन	हाँ
कैलिब्रेशन	सेंसर (स्टेटिक) और लक्ष्य बॉल
डिवाइस संचार	24 बिट के साथ एनआई डीएक्यू
लक्ष्य	1” बॉल लक्ष्य
जांच नेस्ट	3/5 जांच नेस्ट
प्रदर्शन सुविधाएँ	पोलर प्लॉट के लिए देखें v कुल त्रुटि v समकालिक त्रुटि v एसिंक्रोनस त्रुटि

विकास की प्रक्रिया

फास्ट टूल सर्वो (एफटीएस) प्रणाली द्वारा डायमंड टर्न माइक्रो लेंस एरे मोल्ड्स

प्रयोग और लक्षण वर्णन परिणाम आईयूपीटीएम पर माइक्रो लेंस सरणी के लिए नए साँचे बनाने की व्यवहार्यता साबित करते हैं। निम्नलिखित लक्षण वर्णन परिणामों से अनुमान लगाया जा सकता है।

क.) अच्छी तरह से परिभाषित माइक्रो लेंस ज्यामिति फैब्रिकेटेड की जाती है।

ख.) कुछ नैनोमीटर (<11एनएम) की सीमा में सरफेस फिनिश होने जैसा दर्पण माइक्रो लेंस एरे सतह पर प्राप्त किया गया है।

जैव संभावित माप के लिए माइक्रो नीडल एरे आधारित इलेक्ट्रोड

माइक्रो नीडलइलेक्ट्रोड पैच का उपयोग ईईजी माप, स्लीप और सतर्कता निगरानी, एनीशथिया निगरानी, मधुमेह उपचार, इलेक्ट्रोफोरोसिस उपचार, दवा वितरण (दवा कोटिंग के साथ) और कई और अधिक जीवन रक्षक अनुप्रयोगों के लिए किया जा सकता है।

जैव संभावित माप के लिए माइक्रो नीडल एरे आधारित इलेक्ट्रोड

माइक्रो / नैनो फैब्रिकेशन

फोक्सड आयन बीम मशीनिंग

मेक: कार्ल जीस मॉडल: नियॉन -40, फेसेम / एफआईबी

विशेषताएं:

फोक्सड आयन बीम मशीनिंग और लिथोग्राफी।
उन्नत ईडीएस और ईबीएसडी इमेजिंग सिस्टम।
1.1एनएमतक के रिज़ॉल्यूशन के साथ फील्ड एमिशन स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप

विनिर्देशनः

पैरामीटर	वैल्यू
रिज़ॉल्यूशन	1.1एनएम
एफआईबी	नैनो स्केल मशीनिंग। जीआईएस सहायता मिलिंग और डिपॉजिशन, टीईएम लामेला प्रीप्रेशन,

अनुप्रयोगः

माइक्रो और नैनो मशीनिंग।
माइक्रो और नैनो प्रोटोटाइप।
3 डी और मैग्निफाइड इमेजिंग तकनीक।
नैनो-मनीपुलेशन और नैनो जांच।
सामग्री डिपॉजिशन

बॉल मिल

मेक: फ्रिट्सच, पल्वेरीसेट्टे 7 प्रीमियम लाइन

विशेषताएं:

सूखा / गीला ग्राइडिंग
सुरक्षित और विश्वसनीय
विशेष आरएफआईडी चिप के माध्यम से सम्मिलित किए गए पीस कटोरे का स्वत: पता लगाना।
ग्राइडिंग में तापमान और दबाव की वास्तविक समय की निगरानी के लिए आसान जीटीएम सुविधा।

विनिर्देशनः

पैरामीटर	वैल्यू
मुख्य डिस्क स्पीड	100-1,100आरपीएम
नमूना मात्रा	0.5एमएल से 70एमएल
ग्राइडिंग बाउल	टंगस्टन कार्बाइड और ज़िरकोनियम ऑक्साइड

अनुप्रयोगः

ब्रिटल की ग्राइडिंग – नैनो और माइक्रोन स्तर तक फिबरस सामग्री

इंटेलिजेंट अल्ट्रा प्रिसिजन डायमंड टर्निंग मशीन (आईयूपीटीएम)

विशेषताएं:

अलौह सामग्री पर 5एनएमतक सरफेस फिनिश
कमांड रिज़ॉल्यूशन – 1एनएम
प्रतिक्रिया डिवाइस रिज़ॉल्यूशन <50 बजे

विनिर्देशनः

पैरामीटर	वैल्यू
3-एक्सिस	(एक्स एंड जेड, सी-एक्सिस)
अधिकतम स्पिंडल स्पिड	10000 आरपीएम
अनुकूली नियंत्रण प्रौद्योगिकी के साथ ओपन आर्किटेक्चर मोशन कंट्रोलर

अनुप्रयोग:

गोलाकार और लेंस, दर्पण, लेंस निर्माण के लिए नए साँचे,
परिशुद्धता असर घटकों और फ्रेसनेलसरफेस

अपघर्षण प्रवाह मशीन (एएफएम-150डी)

विशेषताएं:

घटकों के सुपर फिनिश /डेबर आईडी और ओडी
तेज किनारों की छंटाई
इनएसीबल एरिया और जटिल आंतरिक मार्ग को फिनिश करना

विनिर्देशनः

पैरामीटर	वैल्यू
घटक की अधिकतम ऊंचाई	10 – 300 मिमी
हाइड्रोलिक दबाव रेंज	15 – 100 बार
मीडिया सिलेंडर बोर व्यास	150 मिमी
मीडिया पिस्टन स्ट्रोक	250 मिमी
मीडिया:	विस्को-इलेस्टिक अपघर्षक लेदेन पॉलीमर

अनुप्रयोगः

मोटर वाहन के पुर्जे (जैसे ईंधन इंजेक्टर आदि), एयरोस्पेस घटक, मेडिकल इम्प्लांट और डेस एंड मोल्ड्स

चुंबकीय घर्षण प्रवाह परिष्करण – मैग्नोसुरफ

विशेषताएं:

परिष्करण के लिए प्रक्रिया तुलनात्मक रूप से बहुत किफायती है
20एनएमया बेहतर करने के लिए सरफेस फिनिश प्राप्त कर सकते हैं
ब्रश की कठोरता को अलग करके एमआरआरको नियंत्रित किया जा सकता है
अपघर्षक स्वयं संरेखित और पैनापन के रूप में कोई ड्रेसिंग की आवश्यकता नहीं है।

विनिर्देशनः

पैरामीटर	वैल्यू
कार्य व्यास	Ø6-20मिमी
सरफेस रफनेस एचिबएबल	रा 20एनएम अथवा बेहतर
पावर	0.5केडब्ल्यू
मैटेरियल रिमूवल	1-5मिमी
Dimensions (लं.xचौ.xऊ.)	320 मिमी x 280 मिमी x 220 मिमी
मीडियाः	विस्को-इलेस्टिक अपघर्षक लेदेन पॉलीमर

अनुप्रयोगः

आईसी इंजन वाल्व, बियरिंग्स, आईडी और परिशुद्धता बेलनाकार घटकों और ट्यूबों, मोल्ड्सऔर ओडी जैसे घटकों के लिए सुपर परिष्करण और कई अन्य।

पुरस्कार

इंटेलिजेंट अल्ट्रा प्रिसिजन टर्निंग मशीन (आईयूपीटीएम) ने इनोवेटिव प्रोडक्ट डेवलपमेंट के लिए इम्टेक्स 2013 में “एफआईईफाउंडेशन अवार्ड” जीता।

विथुन एस एन, नरेंद्र रेड्डी टी, प्रकाश विनोद “टनलिंग माइक्रोस्कोप द्वारा सोने केस्पटर्ड नमूने की नैनोस्केल इमेजिंग की जांच”,मैटेरियल टूडे: कार्यवाही 22, 2020. 2439-2445

मंजुनाथ एम ए, प्रकाश विनोद, बालाशनमुगम एन, शंकर एम आर “एल्युमिनियम प्रोपेलर की सतह खुरदरापन सुधार के लिए घर्षण प्रवाह परिष्करण: ए केस स्टडी”। सामग्री प्रसंस्करण और विशेषता का 9 वां अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन, आईसीएमपीसी-2019.मैटेरियल टूडे में कार्यवाही पर है।

कार्तिक एम एस, कुप्पुस्वामी आर, राजू वी आर, मंजूनाथ एम ए, बालाशानुमुगम एन “बॉल नाक एंड मिल पर घर्षण प्रवाह चमकाने के प्रभाव पर अध्ययन”।प्रिसिजन, मेसो, माइक्रो और नैनो इंजीनियरिंग कोपेन -11, 2019 को अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन।

मंजूनाथ एम ए, मुरुगन ए, प्रकाश विनोद, बालाशनमुगम एन “एब्रेसिव फ्लो फिनिशिंग मशीन के माध्यम से वायर इलेक्ट्रिकल डिस्चार्ज मशीन की सतह पर रिस्टेस्ट परत को हटाकर सतह खुरदरापन सुधार पर माइक्रो और नैनो विनिर्माण और भूतल इंजीनियरिंग में प्रगति, बहु-विषयक औद्योगिक इंजीनियरिंग स्प्रिंगर नेचर सिंगापुर पीटीई लिमिटेड 2019 में व्याख्यान नोट्स।

हरिकृष्णा, सतीश थोता, नवीन के, अंकित के, बालासमुगम एन ने”ईईजी अधिग्रहण के लिए ड्राई माइक्रोनोइडल्स इलेक्ट्रोड आधारित पोर्टेबल वायरलेस इंस्ट्रूमेंटेशन सिस्टम का डिजाइन और विकास – इंस्ट्रूमेंटेशन टेक्नोलॉजी का अंतर्राष्ट्रीय जर्नल वैल्यूम2 नं..2, 148 – 164; 2019 में प्रस्तुत किया।

नवीन के, विग्नेश वी शनभ, एन बालाशानमुगम, प्रकाश विनोद ने “मैग्नेटिक एब्रेसिव फिनिशिंग प्रोसेस द्वारा अल्ट्रा-सटीक फिनिशिंग”, मैटेरियल टूडे: 5 (2018) 12426-123636 में कार्यवाही।

के, विग्नेश, वी.शंभाग, एन.बालाशानमुगम, प्रकाश विनोद “डबल पोल की व्यवस्था, इंटरनेशनल जर्नल ऑफ़ मैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी एंड मैनेजमेंट (आईजेएमटी) – वॉल्यूम के साथ बिना शर्त चुंबकीय अपघर्षक का उपयोग करके चुंबकीय अपघर्षक परिष्करण की जांच-वैल्यूम31, नंबर 4, 2017

बालाशानमुगम एन, नवीन के, प्रसाद कृष्णा, मोहन कुमार जी सी “जैव-क्षमता माप के लिए माइक्रोनडल सरणी आधारित इलेक्ट्रोड का डिजाइन और विकास, नैनो विनिर्माण वॉल्यूम की अंतर्राष्ट्रीय पत्रिका(आईजेएनएम) वैल्यूम13, नंबर 3, 2017

कुमार अभिनव, नवीन के, हरिकृष्णाथोता, प्रकाश विनोद और एन बालाशानमुगम, “मैग्नेटिक एब्रेसिव फिनिशिंग द्वारा तैयार फ्लैट और बेलनाकार अवयवों के लिए सिन्जेड मैग्नेटिक एब्रेसिव मीडिया का विकास”, सटीक, मेसो, माइक्रो और नैनो इंजीनियरिंग पर 10 वें अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन की कार्यवाही(कोपेन), दिसम्बर 07-09, 2017

नरेंद्र रेड्डी टी, विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, श्रीकांता एस राव, मर्विन हर्बर्ट “उच्च गति बंद लूप ऑपरेशन के विकास के लिए एकल पायदान फ्लेक्सचर आधारित नैनोपॉज़िंग सिस्टम”, इंटरनेशनल जर्नल ऑफ़ प्रिसिजन टेक्नोलॉजी, वैल्यूम.7, नंबर 1, 2017

विग्नेश वी शांभाग, नवीन के.बालाशानमुगम एन, प्रकाश विनोद। “फ्लैट सतहों के चुंबकीय अपघर्षक परिष्करण में भूतल खुरदरापन का मूल्यांकन के लिए मॉडलिंग”, इंटरेशनल जर्नल ऑफ प्रिसिजन टेक्नोलॉजी (आईजीटेक) – वॉल्यूम 6, नंबर 2, 2016

नरेंद्र रेड्डी टी, विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, श्रीकांता एस राव, मर्विन हर्बर्ट ने “डिजाइन एंड इंप्लीमेंटेशन ऑफ क्लोज्ड लूप नैनोपॉस्टिंग स्टेज”, वीआईटी, अक्टूबर, 2016 में आयोजित पहले नैनोसाइंस और नैनो टेक्नोलॉजी 2016 (आईसीएनएएन 2016) में अंतर्राष्ट्रीय सम्मेलन में प्रस्तुत किया गया।

नरेंद्र रेड्डी टी, विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, श्रीकांता एस राव, मर्विन हर्बर्ट। “एक उच्च गति पोर्टेबल एक्सवाई फ्लेक्सचर-आधारित नैनोपोज़िंग चरण, इंटरनेशनल जर्नल फॉर साइंटिफिक रिसर्च एंड डेवलपमेंट। वैल्यूम.4, जनवरी 2016, अंक 6, पृष्ठ 868-87

नरेंद्र रेड्डी टी, विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, श्रीकांता एस राव, मर्विन हर्बर्ट। “एक कॉम्पैक्ट एक्सवाईफ्लेक्सचर आधारित स्कैनिंग जांच माइक्रोस्कोप (एसपीएम) के लिए नैनोपोज़िंग स्टेज”, मैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी टुडे केवैल्यूम 15, अक्टूबर 2016, अंक 10, पृष्ठ 3-8 में प्रकाशित।

नरेंद्र रेड्डी टी, विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, श्रीकांता एस राव, मर्विन हर्बर्ट का “नैनोपॉज़िशनिंग अनुप्रयोगों के लिए उच्च बैंडविड्थ फ्लेक्सचर आधारित चरण का विकास”, परउन्नत विज्ञान पत्र- अमेरिकी वैज्ञानिक प्रकाशक, वैल्यूम24, नंबर8,2016 में प्रकाशित।

विथुन एस एन, प्रकाश विनोद, नरेंद्र रेड्डी टी, शशि कुमार पी. वी.का “एकल-फ्लेक्सियर समानांतर चतुर्भुज तंत्र-आधारित एक्स-वाई नैनोपोज़िंग चरण का डिज़ाइन और विश्लेषण”, परइंट. जे. मेक्ट्रोनिक्स एंड मैन्युफैक्चरिंग सिस्टम्स वैल्यूम9, जनवरी 2016 नंबर 1, पीपी.24 – 35 में प्रकाशित।
बालाशानमुगम एन, नवीन के, प्रसाद कृष्ण, मोहन कुमार जी सी का “माइक्रोमैकिनेनिंग एंड माइक्रोमोल्डिंग द्वारा पॉलिमर माइक्रोनेले एरे का निर्माण” पर इंटरनेशनल जर्नल ऑफ इंजीनियरिंग एंड इनोवेटिव टेक्नोलॉजी (आईजेईआईटी), वैल्यूम 5, अंक 5, नवंबर 2015 में प्रकाशित।
“18-19 दिसंबर 2014 के बीच एनआईटीके-सूरतकल में आयोजित आईसीपीसी-2014 सम्मेलन में यूवी फोटो-पॉलिमराइज़्ड पीएमएमएके विभिन्न फोटो-इनिशियेटर एकाग्रता के साथ“ यांत्रिक विशेषता का प्रस्तुतिकरण।

हरिकृष्णासतीश थोता, नवीन के, अंकित के, बालासमुगम एन का “ईईजी अधिग्रहण के लिए ड्राई माइक्रोनोइडल्स इलेक्ट्रोड आधारित पोर्टेबल वायरलेस इंस्ट्रूमेंटेशन सिस्टम का डिजाइन और विकास”, परइंस्ट्रूमेंटेशन टेक्नोलॉजी के अंतर्राष्ट्रीय जर्नल, इंडर्सेंस पब्लिकेशन (स्वीकृत)
गोपी कृष्ण एस, वीआर राजू, के अंकित, पीवी शशिकुमार का “लेजर ग्राउटिंग माउंट के माइक्रो एक्ट्यूएटर के लिए सूक्ष्म आकार के धागे का निर्माण” का लेखइंटरनेशनल जर्नल ऑफ एडवांस्ड मैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी वॉल्यूम 61, पृष्ठ 1215-2020, 2012 में प्रकाशित।
गोपी कृष्ण एस, प्रकाश विनोद, पीवी शशिकुमार, आर कोमांडुरी का “अल्ट्रा सटीक टर्निंग मशीन के टूल पोस्ट के लिए फ्लेक्स आधारित माइक्रो-हाइट एडजस्टमेंट यूनिट का डिज़ाइन और विकास” पर लेख जर्नल ऑफ़ मैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी रिसर्च, वॉल्यूम 4, अंक।1/2, पृष्ठ 61-73, 2012 में प्रकाशित।
आर पेरियानान, यू. नटराजन, पीवी शशि कुमार, एम. चेल्लामलाई, गोपी कृष्णा एस का “माइक्रो-मैन्युफैक्चरिंग का अवलोकन” का लेखमैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी टुडे 10 (5), 3-15, 2011 में प्रकाशित।
गोपी कृष्ण एस, प्रकाश विनोद, पीवी शशि कुमार का “अल्ट्रा प्राइमरी मैकिंग के लिए नैनोमीटर रिज़ॉल्यूशन एयरोस्टेटिक स्पिंडल बेयरिंग के डिज़ाइन विचार” पर लेखमैन्युफैक्चरिंग टेक्नोलॉजी टुडे 9 (1), 3-7, 2010 में प्रकाशित।

पेटेंट

“मैग्नेटिक एब्रेसिव फिनिशिंग अप्लायन्सेज एंड अरेंजमेंट एंड मेथड रिटेनिंग मैग्नेटिक एब्रेसिव्स इन वर्किंग ज़ोन” इंडियन पेटेंट एप्लीकेशन नंबर: 201841009353 दिनांक: 14-03-2018)
“माइक्रोस्टीरो लिथोग्राफी का उपयोग करके माइक्रो सुई बनाने की प्रणाली और विधि” भारतीय पेटेंट कार्यालय आवेदन संख्या: 660 / सीएचई / 2015 दिनांक 11.2.15
“एक कम आवृत्ति पोर्टेबल कंपन अलगाव प्रणाली” भारतीय पेटेंट आवेदन संख्या: 201941032175 दिनांक 08.08.2019
“एक ध्वनिक संलग्नक प्रणाली” भारतीय पेटेंट आवेदन संख्या: 201941032175 दिनांक 08.08. 2019

ट्रेडमार्क

स्कैनिंग टनलिंग माइक्रोस्कोप, नैनोएवलोक एसटीएम (वर्ड) – भारतीय पेटेंट कार्यालय आवेदन संख्या: 3863098, दिनांक: 29.10.2018
स्कैनिंग टनलिंग माइक्रोस्कोप, नैनोएवलोक एसटीएम (लोगो) – भारतीय पेटेंट कार्यालय आवेदन संख्या: 3863099, दिनांक: 29.10.2018
माइक्रोस्टेरोलिथोग्राफी प्रणाली ए.के.ए सूक्ष्म3डी (लोगो और शब्द) – भारतीय पेटेंट कार्यालय आवेदन संख्या: 3894838/39 दिनांक 23/07/2018
“नैनोशेप” (शब्द) ट्रेडमार्क नंबर: 3726286 दिनांक 12/01/18
“नैनोशेप-टी250” (लोगो) ट्रेडमार्क नं .: 3726287 दिनांक 12/01/18

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